Влияние импульсного фотонного отжига на структуру и фазовый состав тонкопленочных систем на основе кремния и переходных металлов

Маркевич, М. И.; Чапланов, А. М.; Щербакова, Е. Н.

Authors

Маркевич, М. И.

Чапланов, А. М.

Щербакова, Е. Н.

Date

2013

Publisher

БНТУ

xmlui.dri2xhtml.METS-1.0.item-identifier-udc

621.315

Bibliographic entry

Маркевич, М. И. Влияние импульсного фотонного отжига на структуру и фазовый состав тонкопленочных систем на основе кремния и переходных металлов / М. И. Маркевич, А. М. Чапланов, Е. Н. Щербакова // Наука и техника : международный научно-технический журнал. – 2013. – № 2. – С. 63–66.

Abstract

Методами просвечивающей электронной микроскопии, электронографии и энергодисперсионного рентгеновского микроанализа проведены исследования элементного состава, закономерностей структурных и фазовых превращений, происходящих в тонкопленочных системах Si–Fe–Si и TiN–Ti–Si при импульсном фотонном отжиге в зависимости от плотности энергии облучения. Определены оптимальные параметры импульсного фотонного отжига для формирования на кремнии тонких пленок FeSi2 β-модификации и TiSi2 в модификации C54.