Show simple item record

dc.contributor.authorМаркевич, М. И.
dc.contributor.authorЧапланов, А. М.
dc.contributor.authorЩербакова, Е. Н.
dc.coverage.spatialМинскru
dc.date.accessioned2013-12-06T08:27:58Z
dc.date.available2013-12-06T08:27:58Z
dc.date.issued2013
dc.identifier.citationМаркевич, М. И. Влияние импульсного фотонного отжига на структуру и фазовый состав тонкопленочных систем на основе кремния и переходных металлов / М. И. Маркевич, А. М. Чапланов, Е. Н. Щербакова // Наука и техника : международный научно-технический журнал. – 2013. – № 2. – С. 63–66.ru
dc.identifier.urihttps://rep.bntu.by/handle/data/5522
dc.description.abstractМетодами просвечивающей электронной микроскопии, электронографии и энергодисперсионного рентгеновского микроанализа проведены исследования элементного состава, закономерностей структурных и фазовых превращений, происходящих в тонкопленочных системах Si–Fe–Si и TiN–Ti–Si при импульсном фотонном отжиге в зависимости от плотности энергии облучения. Определены оптимальные параметры импульсного фотонного отжига для формирования на кремнии тонких пленок FeSi2 β-модификации и TiSi2 в модификации C54.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherБНТУru
dc.titleВлияние импульсного фотонного отжига на структуру и фазовый состав тонкопленочных систем на основе кремния и переходных металловru
dc.typeArticleru
dc.identifier.udc621.315ru
dc.relation.journalНаука и техника : международный научно-технический журнал. – 2013. – № 2.ru


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record