Now showing items 1-3 of 3

    • Исследование зависимости разрешающей способности от величины зазора между шаблоном и кремниевой пластиной в фотолитографии 

      Грудько, Е. Н.; Савицкая, Е. А.; Есман, Д. Ю.; Федорцев, Р. В.; Рум, В. Т. (БНТУ, 2025)
      In contact photolithography, the key parameter is the gap size between the photomask and the photoresist layer. Micrometer deviations lead to changes in the radiation intensity distribution and deterioration in the accuracy of topology transfer. As process standards decrease to the nanometer range, the influence of the gap becomes a critical quality factor.
      2026-01-26
    • Исследование метода компенсации дифракционных эффектов в фотолитографии 

      Грудько, Е. Н.; Савицкая, Е. А.; Есман, Д. Ю.; Рум, В. Т.; Федорцев, Р. В. (БНТУ, 2025)
      В работе представлен анализ и экспериментальное исследование метода компенсации дифракционных эффектов в проекционной фотолитографии путем введения прозрачной жидкости между фотошаблоном и кремниевой пластиной. Метод основан на использовании жидкости с высоким показателем преломления, что приводит к увеличению числовой апертуры проекционной системы и снижению критического размера ...
      2026-01-14
    • Установка автоматического контроля микроразмеров 

      Воронцов, А. И.; Кулешов, Н. В.; Рум, В. Т. (БНТУ, 2017)
      Воронцов, А. И. Установка автоматического контроля микроразмеров / А. И. Воронцов, Н. В. Кулешов, В. Т. Рум // Новые направления развития приборостроения : материалы 10-й международной научно-технической конференции молодых ученых и студентов, Минск, 26−28 апреля 2017 г. : в 2 т. / Белорусский национальный технический университет ; редкол.: О. К. Гусев [и др.]. – Минск, 2017. – ...
      2017-06-29