Исследование метода компенсации дифракционных эффектов в фотолитографии
Another Title
Study of the method of compensation of diffraction effects in photolithography
Bibliographic entry
Исследование метода компенсации дифракционных эффектов в фотолитографии = Study of the method of compensation of diffraction effects in photolithography / Е. Н. Грудько, Е. А. Савицкая, Д. Ю.
Есман // Приборостроение-2025 : материалы 18-й Международной научно-технической конференции, 13–15 ноября 2025 года Минск, Республика Беларусь / редкол.: А. И. Свистун (пред.), О. К. Гусев, Р. И. Воробей [и др.]. – Минск : БНТУ, 2025. – С. 129-131.
Abstract
В работе представлен анализ и экспериментальное исследование метода компенсации дифракционных эффектов в проекционной фотолитографии путем введения прозрачной жидкости между фотошаблоном и кремниевой пластиной. Метод основан на использовании жидкости с высоким показателем преломления, что приводит к увеличению числовой апертуры проекционной системы и снижению критического размера структуры без изменения длины волны экспонирования. Дополнительно жидкость уменьшает амплитуду стоячих волн в фоторезисте, устраняя интерференционные картины и повышая однородность получаемого рисунка. Полученные данные подтверждают эффективность иммерсионной фотолитографии как метода компенсации дифракционных эффектов и демонстрируют ее перспективность для дальнейшего уменьшения размеров элементов.
Abstract in another language
The paper presents an analysis and experimental study of a method for compensating diffraction effects in projection photolithography by introducing a transparent liquid between a photo template and a silicon wafer. The method is based on the use of a liquid with a high refractive index, which leads to an increase in the numerical aperture of the projection system and a decrease in the critical size of the structure without changing the exposure wavelength. Additionally, the liquid reduces the amplitude of standing waves in the photoresist, eliminating interference patterns and increasing the uniformity of the resulting pattern. The data obtained confirm the effectiveness of immersion photolithography as a method for compensating diffraction effects and demonstrate its promise for further reducing the size of elements.