Описан механизм формирования вакуумно-плазменных покрытий на диэлектрических материалах. Предположена методика определения коэффициента потенциальной ионно-электронной эмиссии. Приведен расчет оптимального количества изделий, загружаемых в вакуумную камеру, при котором обеспечивается высокое качество покрытий и максимальная производительность процесса.