Электрофизические свойства имплантированных ионами металлов фоторезистов в СВЧ диапазоне
Bibliographic entry
Волобуев, В. С. Электрофизические свойства имплантированных ионами металлов фоторезистов в СВЧ диапазоне / В. С. Волобуев, В. В. Горжанов, А. Н. Олешкевич // Новые горизонты - 2016 : сборник материалов III Белорусско-Китайского молодежного инновационного форума, 29–30 ноября 2016 года. – Минск : БНТУ, 2016. – С. 170.
Abstract
The studies by EPR contactless electrical properties of nanocomposites photoresist in the microwave range of the following results: the maximum ohmic losses are observed for samples at 1.0 × 1017 cm-2, for nickel ions, and iron ions; detected conductivity anisotropy implanted films in the magnetic field.