Технология ионной имплантации в кремниевой фотонике
Another Title
Ion implantation technology in silicon photonics
Bibliographic entry
Технология ионной имплантации в кремниевой фотонике = Ion implantation technology in silicon photonics / Ф. Ф. Комаров, Л. А. Власукова, О. В. Мильчанин // Приборостроение-2025 : материалы 18-й Международной научно-технической конференции, 13–15 ноября 2025 года Минск, Республика Беларусь / редкол.: А. И. Свистун (пред.), О. К. Гусев, Р. И. Воробей [и др.]. – Минск : БНТУ, 2025. – С. 12-13.
Abstract
В работе рассмотрены результаты исследований по созданию светоизлучающих и фотоприемных приборов УФ-, видимого и ближнего ИК-диапазонов ячеек фотоуправляемой мемристорной памяти на кремнии и по кремниевой технологии.
Abstract in another language
This work presents an overview of research focused on silicon technology for creating optoelectronic devices – such as light emitters and photodetectors for the UV, visible, and near-infrared ranges – and opticallycontrolled memristor memory cells.