Исследование метода компенсации дифракционных эффектов в фотолитографии
Another Title
Study of the method of compensation of diffraction effects in photolithography
Abstract
В работе представлен анализ и экспериментальное исследование метода компенсации дифракционных эффектов в проекционной фотолитографии путем введения прозрачной жидкости между фотошаблоном и кремниевой пластиной. Метод основан на использовании жидкости с высоким показателем преломления, что приводит к увеличению числовой апертуры проекционной системы и снижению критического размера структуры без изменения длины волны экспонирования. Дополнительно жидкость уменьшает амплитуду стоячих волн в фоторезисте, устраняя интерференционные картины и повышая однородность получаемого рисунка. Полученные данные подтверждают эффективность иммерсионной фотолитографии как метода компенсации дифракционных эффектов и демонстрируют ее перспективность для дальнейшего уменьшения размеров элементов.
Abstract in another language
A high-precision metrological facility for reflectance and optical losses measurements of high reflective optical components used in laser and optoelectronic technology is described. The facility uses the cavity-ringdown method. It provides measurement of high reflectance from 98.0000 % to 99.9995 % and optical losses from 5∙10-4 % to 2 % in the spectral range from 450 nm to 2 000 nm of optical elements of laser and optoelectronic technology with a diameter from 12 mm to 55 mm at incidence angles of 0° and from 5° to 45°.