| dc.contributor.author | Жамойть, А. Е. | ru |
| dc.contributor.author | Шидловский, А. Г. | ru |
| dc.contributor.author | Климович, Т. А. | ru |
| dc.contributor.author | Дмитрачук, А. Л. | ru |
| dc.coverage.spatial | Минск | ru |
| dc.date.accessioned | 2025-02-05T12:16:51Z | |
| dc.date.available | 2025-02-05T12:16:51Z | |
| dc.date.issued | 2024 | |
| dc.identifier.citation | Методика формирования переходных отверстий в полиимиде с контролируемым углом наклона боковых стенок в процессе изготовления фотоприемной матрицы = A technique for forming transition holes in polyimide with a controlled angle of inclination of the side walls during the manufacture of a photodetector matrix / А. Е. Жамойть, А. Г. Шидловский, Т. А. Климович, А. Л. Дмитрачук // Приборостроение-2024 : материалы 17-й Международной научно-технической конференции, 26-29 ноября 2024 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: А. И. Свистун (пред.), О. К. Гусев, Р. И. Воробей [и др.]. – Минск : Интегралполиграф, 2024. – С. 397-398. | ru |
| dc.identifier.uri | https://rep.bntu.by/handle/data/153172 | |
| dc.description.abstract | Разработан процесс формирования переходных отверстий в полиимиде с контролируемым углом наклона боковых стенок в процессе изготовления неохлаждаемого теплового детектора болометрического типа методом плазмохимического травления с использованием жесткой металлической маски на основе пленки ванадия. | ru |
| dc.language.iso | ru | ru |
| dc.publisher | Интегралполиграф | ru |
| dc.title | Методика формирования переходных отверстий в полиимиде с контролируемым углом наклона боковых стенок в процессе изготовления фотоприемной матрицы | ru |
| dc.title.alternative | A technique for forming transition holes in polyimide with a controlled angle of inclination of the side walls during the manufacture of a photodetector matrix | ru |
| dc.type | Article | ru |
| local.description.annotation | The process of forming transition holes in polyimide with a controlled angle of inclination of the side walls during the manufacture of an uncooled thermal detector of the bolometric type by plasma chemical etching using a rigid metal mask based on a vanadium film has been developed. | ru |
