Show simple item record

dc.contributor.authorАнисович, А. Г.ru
dc.contributor.authorМаркевич, М. И.ru
dc.contributor.authorЩербакова, Е. Н.ru
dc.coverage.spatialМинскru
dc.date.accessioned2025-02-05T12:16:50Z
dc.date.available2025-02-05T12:16:50Z
dc.date.issued2024
dc.identifier.citationАнисович, А. Г. Исследование структуры полупроводниковой фазы силицида титана = Study of the structure of the semiconductor phase of titanium silicide / А. Г. Анисович, М. И. Маркевич, Е. Н. Щербакова // Приборостроение-2024 : материалы 17-й Международной научно-технической конференции, 26-29 ноября 2024 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: А. И. Свистун (пред.), О. К. Гусев, Р. И. Воробей [и др.]. – Минск : Интегралполиграф, 2024. – С. 388-389.ru
dc.identifier.urihttps://rep.bntu.by/handle/data/153166
dc.description.abstractПредставлены результаты исследования структуры и фазового состава пленок силицидов титана. Установлено, что быстрая термическая обработка (Т = 580–620°С, время 30 с) с использованием галогенных ламп позволяет сформировать слой дисилицида титана в модификации С49.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherИнтегралполиграфru
dc.titleИсследование структуры полупроводниковой фазы силицида титанаru
dc.title.alternativeStudy of the structure of the semiconductor phase of titanium silicideru
dc.typeArticleru
local.description.annotationThe results of the study of the structure and phase composition of titanium silicide films are presented. It has been established that rapid heat treatment (T = 580°–620°C, time 30 s) using halogen lamps allows the formation of a layer of titanium disilicide in the C49 modification.ru


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record