Наноразмерная обработка поверхности подложек из монокристаллов HPHT алмаза для изделий оптоэлектроники
Another Title
Nanoscale processing of the HPHT-diamond substrates for otoelectronics devices
Bibliographic entry
Гусаков, Г. А. Наноразмерная обработка поверхности подложек из монокристаллов HPHT алмаза для изделий оптоэлектроники = Nanoscale processing of the HPHT-diamond substrates for otoelectronics devices / Г. А. Гусаков, Г. В. Шаронов, Л. В. Баран // Приборостроение-2024 : материалы 17-й Международной научно-технической конференции, 26-29 ноября 2024 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: А. И. Свистун (пред.), О. К. Гусев, Р. И. Воробей [и др.]. – Минск : Интегралполиграф, 2024. – С. 215-216.
Abstract
Исследованы технологические процессы прецизионной обработки поверхности подложек из монокристаллов синтетического алмаза оптоэлектронного назначения. Установлено, что примесь никеля оказывает существенное влияние на качество механической шлифовки поверхности алмаза. Показано, что комплексный подход, основанный на отборе кристаллов по содержанию примеси никеля, проведении предварительного вакуумного отжига, механической шлифовки и финишной полировки с использованием в качестве полировальной суспензии смеси субмикронных алмазных порошков и модифицированных наноалмазов детонационного синтеза позволяет получать атомно-гладкие поверхности НРНТ алмазных подложек с шероховатостью Ra ? 0,4 нм.
Abstract in another language
The technological processes of precision processing of the substrates surface made from synthetic dia-mond single-crystals for optoelectronic devices were studied. It was found that the nickel impurity has a significant effect on the quality of mechanical grinding of the diamond surface. It is shown that a comprehensive approach based on the selection of crystals by nickel impurity content, preliminary vacuum annealing, mechanical grinding and final polishing using a mixture of submicron diamond powders and modified detonation synthesis nanodia-monds as a polishing suspension allows obtaining atomically smooth surfaces of HPHT diamond substrates with a roughness Ra < 0.4 nm.