Изменение технологических параметров осаждения как способ управления структурой и свойствами поверхности двухслойных покрытий AlN
Another Title
Changing the technological parameters of deposition as a way to control the structure and surface properties of two-layer AlN coatings
Bibliographic entry
Изменение технологических параметров осаждения как способ управления структурой и свойствами поверхности двухслойных покрытий AlN = Changing the technological parameters of deposition as a way to control the structure and surface properties of two-layer AlN coatings / А. В. Хабарова, В. А. Лапицкая, С. А. Чижик [и др.] // Приборостроение-2024 : материалы 17-й Международной научно-технической конференции, 26-29 ноября 2024 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: А. И. Свистун (пред.), О. К. Гусев, Р. И. Воробей [и др.]. – Минск : Интегралполиграф, 2024. – С. 419-420.
Abstract
Методом наноиндентирования определены физико-механические свойства – модуль упругости E (ГПа) и микротвердость H (ГПа) – двухслойных покрытий AlN. Покрытия толщиной 400 и 800 нм осаждены на кремниевые подложки магнетронным методом Al82,8N17,2/Al70,3N29,7 и Al70,3N29,7/Al82,8N17,2. Уменьшение толщины каждого из слоев двухслойных покрытий от 400 до 200 нм приводит к снижению значений шероховатости и повышению физико-механических свойств в 2,3–2,8 раз.
Abstract in another language
The nanoindentation method was used to determine the physical and mechanical properties – elastic modulus E (GPa) and microhardness H (GPa) – of two-layer AlN coatings. Coatings with a thickness of 400 and 800 nm were deposited on silicon substrates using the magnetron method Al82.8N17.2/Al70.3N29.7 and Al70.3N29.7/Al82.8N17.2. Reducing the thickness of each layer of the two-layer coatings from 400 to 200 nm leads to a decrease in roughness values and an increase in the physical and mechanical properties by 2.3–2.8 times.