Разработка комбинированной технологии нанесения ионно-плазменных наноструктурированных TiSi(Me)N покрытий

Abstract

Цель работы исследовать влияние кремния и других легирующих добавок на формирование состава и свойств ионно-плазменных вакуумных покрытий на основе нитрида титана. На основе полученных закономерностей разработать технологический процесс нанесения ионно-плазменных TiSi(Me)N покрытий. Основные задачи, решаемые для достижения поставленной цели: Установлены основные закономерности влияния легирующих добавок на формирование и свойства легированных TiN покрытий. Рассчитаны потери энергии ионами плазменного потока при их столкновении с частицами технологического газа. Изучены основные закономерности формирования состава плазмы дугового разряда. Разработана методика расчета размера рабочей зоны вакуумной камеры для нанесения покрытий. На основе проведенных расчетов и анализа полученных ранее экспериментальных данных обоснованы области существования оптимальных режимов осаждения покрытий, разработан технологический процесс нанесения покрытий TiSi(Me)N, который реализован на образцах изделий из сплава кобальт-хром медицинского назначения.