Белорусский национальный технический университет
Repository of the Belarusian National Technical University
ISSN: 2310-7405
Repository of the Belarusian National Technical University
View Item 
  •   Repository BNTU
  • Материалы конференций и семинаров
  • Международные и республиканские конференции
  • Приборостроение
  • Приборостроение-2023
  • Материалы конференции по статьям
  • View Item
  •   Repository BNTU
  • Материалы конференций и семинаров
  • Международные и республиканские конференции
  • Приборостроение
  • Приборостроение-2023
  • Материалы конференции по статьям
  • View Item
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Структура и физико-механические свойства пленок Ni-Pt-V на кремнии после быстрой термической обработки

Thumbnail
Authors
Трухан, Р. Э.
Лапицкая, В. А.
Хабарова, А. В.
Соловьёв, Я. А.
Чижик, С. А.
Date
2023
Publisher
БНТУ
Another Title
Structure and physical and mechanical properties of Ni-Pt-V films on silicon after rapid thermal annealing
Bibliographic entry
Структура и физико-механические свойства пленок Ni-Pt-V на кремнии после быстрой термической обработки = Structure and physical and mechanical properties of Ni-Pt-V films on silicon after rapid thermal annealing / Р. Э. Трухан [и др.] // Приборостроение-2023 : материалы 16-й Международной научно-технической конференции, 15-17 ноября 2023 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (пред.) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2023. – С. 419-420.
Abstract
Методами атомно-силовой микроскопии и наноиндентирования исследованы морфология и физико-механические свойства пленок Ni-Pt-V толщиной 40 нм на кремнии после воздействия быстрой термической обработки (БТО). Структура поврехности пленки после 350 °С состоит из зерен размером 11,81–17,77 нм, образующих конгломераты. Размер конгломератов уменьшается при увеличении темпера- туры БТО, а границы между ними становятся менее четкими. Самая низкая шероховатость наблюдается при температуре 350 °С. Удельная поверхностна энергия пленки растет с повышением температуры БТО. Увеличение температуры с 400 до 500 °С повышает модуль упругости и микротвердость в 3,4 раза.
Abstract in another language
The morphology and physical and mechanical properties of 40 nm thick Ni-Pt-V films on silicon after rapid thermal annealing (RTA) were studied by atomic force microscopy and nanoindentation techniques. The film surface structure after 350 °C is grains with a size of 11.81–17.77 nm, forming conglomerates. The conglomerates size decreases with RTA temperature increasing, and the boundaries between them become less clear. The lowest roughness is observed at a temperature of 350 °C. The film specific surface energy increases with increasing RTA temperature. Increasing the temperature from 400 to 500 °C increases the elastic modulus and microhardness by 3.4 times.
URI
https://rep.bntu.by/handle/data/138606
View/Open
419-420.pdf (454.2Kb)
Collections
  • Материалы конференции по статьям[224]
Show full item record
CORE Recommender

Belarusian National Technical University | Science Library | About Repository | Размещение в Репозитории | Contact Us
Яндекс.МетрикаIP Geolocation by DB-IP
Science Library | About Repository | Размещение в Репозитории | Contact Us
 

Browse

All of Repository BNTUCommunities & CollectionsAuthorsTitlesBy Issue DatePublisherBy Submit DateTypeThis CollectionAuthorsTitlesBy Issue DatePublisherBy Submit DateType

My Account

LoginRegister

Belarusian National Technical University | Science Library | About Repository | Размещение в Репозитории | Contact Us
Яндекс.МетрикаIP Geolocation by DB-IP
Science Library | About Repository | Размещение в Репозитории | Contact Us