Show simple item record

dc.contributor.authorЖамойть, А. Е.ru
dc.contributor.authorКозодоев, С. В.ru
dc.contributor.authorЗанько, А. И.ru
dc.contributor.authorВидрицкий, А. Э.ru
dc.coverage.spatialМинскru
dc.date.accessioned2023-12-21T07:32:14Z
dc.date.available2023-12-21T07:32:14Z
dc.date.issued2023
dc.identifier.citationПолучение электрического контакта к слою алюминия металлизацией формируемой методом взрывной фотолитографии = Receiving electrical contact to the aluminum layer by metallization formed by lift-off photolithography method / А. Е. Жамойть [и др.] // Приборостроение-2023 : материалы 16-й Международной научно-технической конференции, 15-17 ноября 2023 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (пред.) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2023. – С. 224-225.ru
dc.identifier.urihttps://rep.bntu.by/handle/data/138497
dc.description.abstractИсследованы способы достижения электрического контакта к алюминию металлизацией Ti/Ni/Au формируемого методом взрывной фотолитографии (lift-off). Получены электрические контакты с применением ионной очистки длительностью 30 минут и отжиге 450 °С сопротивлением 1,5–5 Ом на контакт.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherБНТУru
dc.titleПолучение электрического контакта к слою алюминия металлизацией формируемой методом взрывной фотолитографииru
dc.title.alternativeReceiving electrical contact to the aluminum layer by metallization formed by lift-off photolithography methodru
dc.typeWorking Paperru
local.description.annotationMethods for achieving electrical contact with aluminum by metallization of Ti/Ni/Au formed by lift-off photolithography have been studied. Electrical contacts were obtained using ion cleaning for 30 minutes and annealing at 450 °C with a resistance of 1.5–5 Ohms per contact.ru


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record