dc.contributor.author | Жамойть, А. Е. | ru |
dc.contributor.author | Козодоев, С. В. | ru |
dc.contributor.author | Занько, А. И. | ru |
dc.contributor.author | Видрицкий, А. Э. | ru |
dc.coverage.spatial | Минск | ru |
dc.date.accessioned | 2023-12-21T07:32:14Z | |
dc.date.available | 2023-12-21T07:32:14Z | |
dc.date.issued | 2023 | |
dc.identifier.citation | Получение электрического контакта к слою алюминия металлизацией формируемой методом взрывной фотолитографии = Receiving electrical contact to the aluminum layer by metallization formed by lift-off photolithography method / А. Е. Жамойть [и др.] // Приборостроение-2023 : материалы 16-й Международной научно-технической конференции, 15-17 ноября 2023 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (пред.) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2023. – С. 224-225. | ru |
dc.identifier.uri | https://rep.bntu.by/handle/data/138497 | |
dc.description.abstract | Исследованы способы достижения электрического контакта к алюминию металлизацией Ti/Ni/Au формируемого методом взрывной фотолитографии (lift-off). Получены электрические контакты с применением ионной очистки длительностью 30 минут и отжиге 450 °С сопротивлением 1,5–5 Ом на контакт. | ru |
dc.language.iso | ru | ru |
dc.publisher | БНТУ | ru |
dc.title | Получение электрического контакта к слою алюминия металлизацией формируемой методом взрывной фотолитографии | ru |
dc.title.alternative | Receiving electrical contact to the aluminum layer by metallization formed by lift-off photolithography method | ru |
dc.type | Working Paper | ru |
local.description.annotation | Methods for achieving electrical contact with aluminum by metallization of Ti/Ni/Au formed by lift-off photolithography have been studied. Electrical contacts were obtained using ion cleaning for 30 minutes and annealing at 450 °C with a resistance of 1.5–5 Ohms per contact. | ru |