Комплексные исследования тонкопленочных систем на основе Fe-Si при отжиге в плазме
Loading...
Files
item.page.other-contributor
item.page.advisors
item.page.editors
Date
Publisher
item.page.issn
item.page.isbn
item.page.depon
item.page.diss
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
item.page.title-alternative
Complex investigations of thin-film systems based on Fe-Si by plasma annealing
Abstract
Представлены результаты комплексных исследований методами электронографии и атомносиловой микроскопии тонкопленочных систем на основе железа и кремния при отжиге в плазме дугового разряда. Определены оптимальные режимы обработки для формирования пленок дисилицида железа ß- модификации.
item.page.description-other
The results of complex studies using electronography and atomic force microscopy of thin-film systems based on iron and silicon during treatment in an arc discharge plasma are presented. Optimal treatment modes for the formation of thin films of iron disilicide of beta modification have been determined.
Description
Citation
Комплексные исследования тонкопленочных систем на основе Fe-Si при отжиге в плазме = Complex investigations of thin-film systems based on Fe-Si by plasma annealing / Е. Н. Щербакова [и др.] // Приборостроение-2022 : материалы 15-й Международной научно-технической конференции, 16-18 ноября 2022 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (председатель) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2022. – С. 465-466.