Комплексные исследования тонкопленочных систем на основе Fe-Si при отжиге в плазме
Another Title
Complex investigations of thin-film systems based on Fe-Si by plasma annealing
Bibliographic entry
Комплексные исследования тонкопленочных систем на основе Fe-Si при отжиге в плазме = Complex investigations of thin-film systems based on Fe-Si by plasma annealing / Е. Н. Щербакова [и др.] // Приборостроение-2022 : материалы 15-й Международной научно-технической конференции, 16-18 ноября 2022 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (председатель) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2022. – С. 465-466.
Abstract
Представлены результаты комплексных исследований методами электронографии и атомносиловой микроскопии тонкопленочных систем на основе железа и кремния при отжиге в плазме дугового разряда. Определены оптимальные режимы обработки для формирования пленок дисилицида железа ß- модификации.
Abstract in another language
The results of complex studies using electronography and atomic force microscopy of thin-film systems based on iron and silicon during treatment in an arc discharge plasma are presented. Optimal treatment modes for the formation of thin films of iron disilicide of beta modification have been determined.