面向芯片稀土纳米氧化铈化学机械抛光液的研发
Bibliographic entry
赵朗. 面向芯片稀土纳米氧化铈化学机械抛光液的研发 / 赵朗 // Минск – Шанхай – Чанчунь: стратегия прорывного сотрудничества : сборник материалов научно-практической конференции (Минск, 21 апреля 2022 г.) / Белорусский национальный технический университет. – Минск : БНТУ, 2022. – С. 238-240.
Abstract
Отечественный раствор оксида церия для полировки обладает рядом проблем, таких как неравномерная форма абразивных частиц, серьезная агломерация, загрязнение ионами металлов и плохие характеристики полировки, что не может удовлетворить требования к полировке чипов. Ожидается, что путем разработки новой технологии изготовления полировального порошка и нового типа экологически чистой полировальной жидкости возможно решить вышеуказанные проблемы и обеспечим отечественное производство чипов.
Abstract in another language
国产氧化铈抛光液普遍存在磨粒形貌不均、团聚严重、金属离子污 染和抛光性能差等问题，无法达到芯片抛光要求。我们通过开发抛光粉制备新 工艺，研发绿色环保新型抛光液，有望克服上述难题为国产芯片制造保驾护航。