Основная идея представляемой работы – исследовать условия получения и свойства сфера образных наноструктур, формируемых в объеме пластин монокристаллического кремния. Стандартные пластины Cz-Si, n типа имплантировались ионами водорода при разных температурах и разными дозами. Формирование объемных наноструктур, происходило в результате обработки образцов в DC плазме водорода, при ...