Вакуумно-технологическое оборудование для напыления слоев Ti, Ni, Ag, Cr, Cr2O3
| dc.contributor.author | Сапожникова, К. С. | ru |
| dc.contributor.author | Наливайко, О. Ю. | ru |
| dc.contributor.author | Щербакова, Е. Н. | ru |
| dc.coverage.spatial | Минск | ru |
| dc.date.accessioned | 2025-02-05T12:16:51Z | |
| dc.date.available | 2025-02-05T12:16:51Z | |
| dc.date.issued | 2024 | |
| dc.description.abstract | Представлен основной состав технологических устройств и подложки для проведения процесса на вакуумно-напылительной установке. | ru |
| dc.identifier.citation | Сапожникова, К. С. Вакуумно-технологическое оборудование для напыления слоев Ti, Ni, Ag, Cr, Cr2O3 = Vacuum technological equipment for sputtering layers of Ti, Ni, Ag, Cr, Cr2O3 / К. С. Сапожникова, О. Ю. Наливайко, Е. Н. Щербакова // Приборостроение-2024 : материалы 17-й Международной научно-технической конференции, 26-29 ноября 2024 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: А. И. Свистун (пред.), О. К. Гусев, Р. И. Воробей [и др.]. – Минск : Интегралполиграф, 2024. – С. 409-411. | ru |
| dc.identifier.uri | https://rep.bntu.by/handle/data/153178 | |
| dc.language.iso | ru | ru |
| dc.publisher | Интегралполиграф | ru |
| dc.title | Вакуумно-технологическое оборудование для напыления слоев Ti, Ni, Ag, Cr, Cr2O3 | ru |
| dc.title.alternative | Vacuum technological equipment for sputtering layers of Ti, Ni, Ag, Cr, Cr2O3 | ru |
| dc.type | Article | ru |
| local.description.annotation | The main composition of technological devices and substrates for carrying out the process on a vacuum sputtering equipment. | ru |
Files
Original bundle
1 - 1 of 1