| dc.contributor.author | Маркевич, М. И. | ru |
| dc.contributor.author | Щербакова, Е. Н. | ru |
| dc.coverage.spatial | Минск | ru |
| dc.date.accessioned | 2026-01-14T07:23:20Z | |
| dc.date.available | 2026-01-14T07:23:20Z | |
| dc.date.issued | 2025 | |
| dc.identifier.citation | Маркевич, М. И. Методы получения пленок силицидов титана = Methods for obtaining titanium silicide films / М. И. Маркевич, Е. Н. Щербакова // Приборостроение-2025 : материалы 18-й Международной научно-технической конференции, 13–15 ноября 2025 года Минск, Республика Беларусь / редкол.: А. И. Свистун (пред.), О. К. Гусев, Р. И. Воробей [и др.]. – Минск : БНТУ, 2025. – С. 61-62. | ru |
| dc.identifier.uri | https://rep.bntu.by/handle/data/162733 | |
| dc.description.abstract | Представлены методы получения пленок силицидов тугоплавких металлов для изделий микроэлектроники. Акцент делается на формирование силицидов титана методом быстрой термической обработки (БТО). Рассматриваются факторы, ускоряющие протекание реакций формирования силицидов. | ru |
| dc.language.iso | ru | ru |
| dc.publisher | БНТУ | ru |
| dc.title | Методы получения пленок силицидов титана | ru |
| dc.title.alternative | Methods for obtaining titanium silicide films | ru |
| dc.type | Working Paper | ru |
| local.description.annotation | Methods for obtaining films of silicides of refractory metals for microelectronics products are presented. The emphasis is on the formation of titanium silicides by rapid thermal annealing (RTA). The factors accelrating the reactions of formation of silicides are considered. | ru |
