Влияние импульсного фотонного отжига на структуру и фазовый состав тонкопленочных систем на основе кремния и переходных металлов
Loading...
Files
item.page.other-contributor
item.page.advisors
item.page.editors
Date
Publisher
item.page.issn
item.page.isbn
item.page.depon
item.page.diss
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
item.page.title-alternative
Abstract
Методами просвечивающей электронной микроскопии, электронографии и энергодисперсионного рентгеновского микроанализа проведены исследования элементного состава, закономерностей структурных и фазовых превращений, происходящих в тонкопленочных системах Si–Fe–Si и TiN–Ti–Si при импульсном фотонном отжиге в зависимости от плотности энергии облучения. Определены оптимальные параметры импульсного фотонного отжига для формирования на кремнии тонких пленок FeSi2 β-модификации и TiSi2 в модификации C54.
item.page.description-other
Description
Citation
Маркевич, М. И. Влияние импульсного фотонного отжига на структуру и фазовый состав тонкопленочных систем на основе кремния и переходных металлов / М. И. Маркевич, А. М. Чапланов, Е. Н. Щербакова // Наука и техника : международный научно-технический журнал. – 2013. – № 2. – С. 63–66.