Now showing items 1-2 of 2

    • Система контроля расхода газов для применения в технологии реактивного магнетронного распыления 

      Климович, И. М.; Кулешов, В. Н.; Зайков, В. А.; Бурмаков, А. П.; Комаров, Ф. Ф.; Людчик О. Р. (БНТУ, 2015)
      Неустойчивость параметров разряда и химического состава потоков частиц, поступающих на подложку, в переходных режимах реактивного магнетронного распыления приводит к невоспроизводимости состава покрытий от процесса к процессу. Целью настоящей работы являлась разработка системы контроля расхода газа, позволяющая стационарно поддерживать неравновесное состояние магнетронного разряда ...
      2015-12-30
    • Установка для исследования параметров магнетронной и лазерной плазмы 

      Бурмаков, А. П.; Зайков, В. А.; Комаров, Ф. Ф.; Людчик, О. Р.; Солодухо, Д. А. (БНТУ, 2012)
      В работе рассмотрены различные модификации установки для импульсного лазерного и магнетронного осаждения тонкопленочных структур с контролируемыми условиями формирования плазменного потока и возможностью исследования параметров плазмы. Предложены варианты для совместного и раздельного осаждения слоев. Разработанная установка расширяет энергетический, зарядовый и элементный состав ...
      2013-02-05