Show simple item record

dc.contributor.authorСолдатенко, С. А.
dc.contributor.authorКузьмина, В. О.
dc.contributor.authorТураева, Т. Л.
dc.coverage.spatialМинскru
dc.date.accessioned2019-04-15T06:32:47Z
dc.date.available2019-04-15T06:32:47Z
dc.date.issued2018
dc.identifier.citationСолдатенко, С. А. Энергии активации процессов роста субзерен и развития морфологии при синтезе пленок β-SiC на (111)Si в атмосфере метана = The activation energies of subgrain growth and the evolution of roughness in the synthesis of β-SiC films on (111) Si in a methane atmosphere / С. А. Солдатенко, В. О. Кузьмина, Т. Л. Тураева // Современные методы и технологии создания и обработки материалов : материалы XIII Международной научно-технической конференции, 12-14 сентября 2018 г. [Электронный ресурс]. – Минск : [б. и.], 2018.ru
dc.identifier.urihttps://rep.bntu.by/handle/data/51780
dc.description.abstractМетодами просвечивающей электронной микроскопии, дифракции быстрых электронов, атомно-силовой микроскопии и оже-электронной спектроскопии проведены исследования фазового состава, ориентации, субструктуры и морфологии пленок, образующихся при импульсной фотонной обработке излучением ксеноновых ламп пластин кремния (111) Si в атмосфере метана. Установлено, что в диапазоне плотности энергии излучения (EИ), поступающей на пластины толщиной 450 мкм за 3 с, от 267 до 284 Дж·см2 на обеих поверхностях как с облучаемой, так и с не облучаемой стороны образуются ориентированные нанокристаллические пленки b-SiC. При этом на облучаемой стороне синтез пленок осуществляется при участии фотонной активации процессов (ИФО) и на обратной стороне – только термической активацией (БТО). Показано, что с увеличением плотности энергии излучения в пленках b-SiC средний размер субзерна на облучаемой стороне возрастает с 4,2 нм (EИ = 269 Дж·см2) до 7,9 нм (EИ = 284 Дж) и на не облучаемой стороне – с 3,9 до 7,0 нм, соответственно. Шероховатость поверхности b-SiC с увеличением плотности энергии излучения принимает значения на облучаемой стороне с 19 нм (EИ = 269 Дж·см2) до 60 нм (EИ = 267 Дж·см2) и на не облучаемой стороне с 11 нм до 56 нм, соответственно. На основании температурных зависимостей среднего размера зерна и шероховатости оценены энергии активации процессов. Энергия активации роста субзерен b-SiC практически не зависит от способа активации и составляет 1,3 эВ. Энергия активации развития шероховатости составляет при ИФО 2,5 эВ и при БТО 3,5 эВ.ru
dc.language.isoruru
dc.titleЭнергии активации процессов роста субзерен и развития морфологии при синтезе пленок β-SiC на (111)Si в атмосфере метанаru
dc.title.alternativeThe activation energies of subgrain growth and the evolution of roughness in the synthesis of β-SiC films on (111) Si in a methane atmosphereru
dc.typeWorking Paperru
local.description.annotationBy the methods of transmission electron microscopy, high energy electron diffraction, atomic force microscopy, and Auger electron spectroscopy the phase composition, orientation, substructure, and morphology of films formed during pulsed photon treatment (PPT) by radiation of xenon lamps of silicon (111) Si substrates in an atmosphere of methane have been studied. It has been established that in the range of the energy density of radiation (Ep) supplied to the substrate with a thickness of 0.45 μm for 3 s, from 269 to 284 J cm–2, oriented nanocrystalline films are formed on both surfaces of the substrates both from the irradiated and non-irradiated side β-SiC thickness of about 150 nm. In this case, the synthesis of films on the irradiated side is carried out with the participation of photon activation of processes and on the reverse side – only by thermal activation (short time annealing (STA)). It has been shown that with an increase in the energy density of radiation in β-SiC films, the average subgrain size on the irradiated side increases from 4.2 nm (EP = 269 J ·cm–2) to 7.9 nm (EP = 284 J ·cm–2) and on the non-irradiated side 3.9 to 7.0 nm, respectively. The surface roughness of the β-SiC surface proceeds consequentially on the irradiated side at 19 nm (EP = 269 J ·cm–2) to 60 nm (EP = 284 J ·cm–2) and on the non-irradiated side from 11 nm to 56 nm, respectively. Based on the temperature dependences of the average grain size and roughness, the activation energies of the processes have been estimated. The activation energy of subgrain β-SiC growth is practically independent of the activation method and is 1.3 eV. The activation energy for the evolution of roughness is 2.5 eV at a PPT and 3.5 eV at a STA.ru


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record