Show simple item record

dc.contributor.authorИванов, И. А.ru
dc.contributor.authorВалейский, Д. В.ru
dc.contributor.authorКасинский, Н. К.ru
dc.coverage.spatialМинскru
dc.date.accessioned2017-07-05T15:43:10Z
dc.date.available2017-07-05T15:43:10Z
dc.date.issued2017
dc.identifier.citationИванов, И. А. Стохастические подходы к проектированию процессов вакуумно-плазменного формирования наноструктурных покрытий = The stochastic approaches of processes' design in vacuum-plasma formation of nanostructured coatings / И. А. Иванов, Д. В. Валейский, Н. К. Касинский // Литье и металлургия. - 2017. – № 2 (87). - С. 76-80.ru
dc.identifier.urihttps://rep.bntu.by/handle/data/31586
dc.description.abstractВ работе обсуждаются вопросы применения стохастического метода пробной частицы для разработки численного алгоритма расчета пространственных и энергетических параметров однокомпонентного потока металлической плазмы, двигающейся в среде технологического газа. Предложенный расчетный алгоритм позволяет определять плотность распределения плазменного потока по поверхности изделия и проводить оценку потери энергии ионами потока на упругие столкновения при движении в объеме вакуумной камеры. Исследован состав технологического газа и ионной составляющей потока плазмы. Предложена теоретическая модель формирования адсорбционного слоя на поверхности изделия, учитывающая совместное протекание различных явлений на поверхности конденсации.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherБНТУru
dc.subjectПлазмаru
dc.subjectЭнергияru
dc.subjectНаноструктурное покрытиеru
dc.subjectPlasmaen
dc.subjectEnergyen
dc.subjectNanostructured coatingen
dc.titleСтохастические подходы к проектированию процессов вакуумно-плазменного формирования наноструктурных покрытийru
dc.title.alternativeThe stochastic approaches of processes' design in vacuum-plasma formation of nanostructured coatingsen
dc.typeArticleru
dc.relation.journalЛитье и металлургияru
local.description.annotationThe calculations of the spatial and energy parameters of a single-component metal plasma flow which is moved in a process gas environment using a numerical algorithm of test particle stochastic method are discussed. The results of the calculations are used for determining of the plasma flow density distribution on the product surface and for the energy loss in the ion flow within vacuum vessel. The compositions of the process gas and ion plasma flow are investigated. A theoretical model of the adsorption layer formation on the surface of the product with the reliance of the various simultaneous events on the condensation surface is offered.en


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record