Show simple item record

dc.contributor.authorБринкевич, Д. И.ru
dc.contributor.authorПросолович, В. С.ru
dc.contributor.authorЧерный, В. В.ru
dc.contributor.authorВабищевич, С. А.ru
dc.contributor.authorВабищевич, Н. В.ru
dc.coverage.spatialМинскru
dc.date.accessioned2022-12-28T10:38:23Z
dc.date.available2022-12-28T10:38:23Z
dc.date.issued2022
dc.identifier.citationИндентирование облученных электронами пленок позитивных новолачных фоторезистов на кремнии = Indentation of electron irradiated positive novolac photoresists films on silicon / Д. И. Бринкевич [и др.] // Приборостроение-2022 : материалы 15-й Международной научно-технической конференции, 16-18 ноября 2022 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (председатель) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2022. – С. 144-145.ru
dc.identifier.urihttps://rep.bntu.by/handle/data/124453
dc.description.abstractМетодом микроиндентирования исследованы прочностные и адгезионные свойства пленок диазохинон-новолачных позитивных фоторезистов S1813, SPR-700 и ФП9120 толщиной 1,2–1,8 мкм, облученных электронами c энергией 5 МэВ флюенсом 3·1016 см-2. Показано, что при облучении микротвердость фоторезистивных пленк возрастает, причем наиболее существенно в SPR-700.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherБНТУru
dc.titleИндентирование облученных электронами пленок позитивных новолачных фоторезистов на кремнииru
dc.title.alternativeIndentation of electron irradiated positive novolac photoresists films on siliconru
dc.typeWorking Paperru
local.description.annotationThe strength and adhesive properties of films of diazoquinone-novolac positive photoresists S1813, SPR-700 and FP9120 with a thickness of 1.2–1.8 microns irradiated with electrons with an energy of 5 MeV with a fluence of 3ꞏ1016 cm-2 were studied by microindentation. It is shown that under irradiation, the microhardness of photoresistive films increases, and most significantly in SPR-700.ru


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record